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高低溫冷卻液循環(huán)裝置應用廣泛

簡要描述:制冷加熱循環(huán)一體機,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。高低溫冷卻液循環(huán)裝置應用廣泛

  • 產品型號:SUNDI-575
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-01-11
  • 訪  問  量:743
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區(qū)間5萬-10萬
產地類別國產應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產業(yè),石油,航空航天

<strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong>

<strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong>沈陽谷輪制冷機一體機-tcu制冷加熱系統(tǒng)</strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong> 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

<strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong>

高低溫冷卻液循環(huán)裝置應用廣泛

高低溫冷卻液循環(huán)裝置應用廣泛

  高低溫冷卻液循環(huán)裝置有風冷和水冷兩種類型。風冷型設備不需要用到冷卻水,可以在任何地方使用,設備制冷過程中產生的熱量會直接散入周圍的空氣中。水冷型設備,需要與冷卻水連接使用,它不會將余熱散到小實驗室中。對于需要與環(huán)境隔絕的應用來說,使用水冷型設備即能形成一個全封閉的系統(tǒng)。

  高低溫冷卻液循環(huán)裝置憑借其制冷、加熱控溫系統(tǒng)的優(yōu)點,正越來越受到市場的青睞,打造的整體解決方案涵蓋制藥、化工、新能源汽車、輕工、石化、環(huán)境、醫(yī)藥、、、精細與日用化工等領域得到廣泛應用外,其應用規(guī)模和領域仍在不斷拓寬中。

  高低溫冷卻液循環(huán)裝置組特征如下:

  (1)制冷機組復疊式壓縮制冷循環(huán),可實現(xiàn)較低的溫度;加熱采用電加熱的方式,能對循環(huán)介質進行快速升溫。

  (2)采用了的設計,實現(xiàn)了制冷量變化調節(jié),主要通過PID控制制冷劑流量,對物料溫度進行準確控制,傳統(tǒng)的做法是采用電加熱抵消壓縮機的制冷,非常浪費能源。

  (3)加熱和制冷的聯(lián)合控制,實現(xiàn)對物料吸熱或放熱的快速響應。

  (4)物料溫度的控制主要通過制冷劑流量控制來實現(xiàn),制冷劑的比例調節(jié)閥采用電子膨脹閥的閥體,步進電機一般有的級數(shù),可以實現(xiàn)較高的控溫精度。

高低溫冷卻液循環(huán)裝置由制冷循環(huán)系統(tǒng)、加熱循環(huán)系統(tǒng)、自動控制系統(tǒng)組成。對設備有防爆要求的區(qū)域,可定制正壓防爆型箱體,不僅符合防爆要求,也降低了防爆元器件的使用數(shù)量,降低了整機的制作成本。

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